Einzelne Farbzentren in Siliziumkarbid: elektrooptischer Zugang mittels epitaktischem Graphen
Einzelne Farbzentren in Siliziumkarbid: elektrooptischer Zugang mittels epitaktischem Graphen
(Drittmittelfinanzierte Einzelförderung)
Titel des Gesamtprojektes:
Projektleitung:
Projektbeteiligte:
Projektstart: 1. April 2017
Projektende:
Akronym:
Mittelgeber: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG)
URL:
Abstract
Unser Vorhaben ist die gleichzeitige elektrische und optische Charakterisierung von Farbzentren (insbesondere intrinsischer Defekte) in Siliziumkarbid (SiC). Für deren Herstellung wird die Methode der Ionenimplantation in Kombination mit optimierten Ausheilprozessen entwickelt. Sie erlaubt kleinste Störstellenkonzentrationen nahe der SiC (0001) Oberfläche, so dass der Zugriff auf einzelne Defekte möglich wird. Diese (0001) Oberfläche wird mit epitaktisch aufgewachsenen Graphen-Elektroden versehen sein, so dass eine Raumladungszone entsteht, in der der Defekt elektrostatisch beeinflusst werden kann. Insbesondere kann er durch Anlegen einer Spannung befüllt und entleert werden. In Verbindung mit unseren patentierten epitaktischen monolithischen SiC/Graphen Transistoren werden wir die Methode der Drain-Strom-Transientenspektroskopie weiterentwickeln, um mit elektrischen Messungen sensitiv auf einzelne Defekte zu werden. Gleichzeitig erlauben die transparenten Graphen-Elektroden den optischen Zugang zum selben Defekt, den wir mittels eines konfokalen Mikroskops einzeln spektroskopieren werden, im sichtbaren wie im infraroten Spektralbereich. Wir erwarten durch die kombinierte elektrische und optische Beeinflussung sowie die elektrische und optische Charakterisierung am selben Farbzentrum/Defekt ein tiefes Verständnis der Anregungsspektren zu erreichen und die Brücke zwischen elektrischer und optischer Anregung zu schlagen. Diese verfeinerte Methodik der Defektanalyse hat große Bedeutung für elektrische SiC Bauelemente. Sie eröffnet auch die Möglichkeit, in diesem ausgereiften Materialsystem elektrisch steuerbare Einzelphotonenemitter zu bauen, die zudem hochempfindliche Sensorik ermöglichen sollten.
Publikationen
Controlled generation of intrinsic near-infrared color centers in 4H-SiC via proton irradiation and annealing
In: Applied Physics Letters 113 (2018), S. 122102
ISSN: 0003-6951
DOI: 10.1063/1.5045859
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Stark Tuning of the Silicon Vacancy in Silicon Carbide
In: Nano Letters 20 (2020), S. 658-663
ISSN: 1530-6984
DOI: 10.1021/acs.nanolett.9b04419
URL: https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.nanolett.9b04419
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Intrinsic color centers in 4H-silicon carbide formed by heavy ion implantation and annealing
In: Journal of Physics D-Applied Physics 55 (2021), Art.Nr.: 105303
ISSN: 0022-3727
DOI: 10.1088/1361-6463/ac3a49
URL: http://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6463/ac3a49
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